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100種單元高純特種氣體的用途

來源:本站    發布時間:2020/6/2 16:57:55    點擊量:

100種單元高純特種氣體的用途


1

氮氣-N2

純度要求>99.999%,用作標準氣、在線儀表標準氣、校正氣、零點氣、平衡氣;用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入、等離子干刻、光刻、退火、搭接、燒結等工序;電器、食品包裝、化學等工業也要用氮氣。


2

氧氣-O2

>99.995%,用作標準氣在線儀表標準氣、校正氣、零點氣;還可用于醫療氣;在半導體器件制備工藝中用于熱氧化、擴散、化學氣相淀積、等離子干刻等工序;以及用于光導纖維的制備。


3

氬氣-Ar

>99.999,用作標準氣、零點氣、平衡氣;用于半導體器件制備工藝中晶體生長、熱氧化、外延、擴散、氮化、噴射、等離子干刻、載流、退火、搭接、燒結等工序;特種混合氣與工業混合氣也使用氫。


4

氫氣-H2

>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、在線儀表標準氣;在半導體器件制備工藝中用于晶休生長、熱氧化、外延、擴散、多晶硅、鎢化、離子注入、載流、燒結等工序;在化學、冶金等工業中也有用。


5

氦氣-He

>99.999%,用作標準氣、零點氣、平衡氣、校正氣、醫療氣;于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、載流等工序;另外,特種混合氣與工業混合氣也常用。


6

氯氣-Cl2

>99.96%,用作標準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中晶體生長、等離子干刻、熱氧化等工序;另外,用于水凈化、紙漿與紡織品的漂白、下業廢品、污水、游泳池的衛生處理;制備許多化學產品。


7

氟氣-F2

>98%,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻;另外,用于制備六氟化鈾、六氟化硫、三氟化硼和金屬氟化物等。


8

氨氣-NH3

>99.995%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;用于半導體器件制備工藝中氮化工序;另外,用于制冷、化肥、石油、采礦、橡膠等工業。


9

氯化氫-HCI

>99.995%,用作標準氣;用于半導體器件制備工藝中外延、熱氧化、擴散等工序;另外,用于橡膠氯氫化反應中的化學中間體、生產乙烯基和烷基氯化物時起氧氯化作用。


10

一氧化氮-NO

>99%,用作標準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積主序;制備監控大氣污染的標準混合氣。


11

二氧化碳-CO2

>99.99%,用作標準氣、在線儀表標推氣、校正氣;于半導體器件制備工藝中氧化、載流工序警另外,還用于特種混合氣、發電、氣體置換處理、殺菌氣體稀釋劑、滅火劑、食品冷凍、金屬冷處理、飲料充氣、煙霧噴射劑、食品貯存保護氣等。



12

氧化亞氮-N2O,(即笑氣)

>99.999%,用作標準氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積、醫月麻醉劑、煙霧噴射劑、真空和帶壓檢漏;紅外光譜分析儀等也用。


13

硫化氫-H2S

>99.999%,用作標準氣、校正氣;用于半導體器件制備工藝中等離子干刻,化學工業中用于制備硫化物,如硫化鈉,硫化有機物;用作溶劑;實驗室定量分析用。


14

四氯化碳-CCl4

>99.99%,用作標準氣;用于半導體器件制備工藝中外延丫、化學氣相淀積等工序;另外,用作溶劑、有機物的氯化劑、香料的浸出劑、纖維的脫脂劑、滅火劑、分析試劑、制備氯仿和藥物等。


15

氰化氫-HCN

>99.9,用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;制備氫氰酸溶液,金屬氰化物、氰氯化物;也用于制備丙烯睛和丙烯衍生物的合成中間體。


16

碳酰氟-COF2

>99.99%,用于半尋體器件制備工藝中等離子干刻工序;另外,用作氟化劑。


17

碳酰硫-COS

>99.99%,用作校正氣;用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;也用于有些羧基、硫代酸、硫代碳酸鹽和噻唑的合成。


18

碘化氫-HI

>99.95%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序;還用于氫碘酸溶液制備。


19

嗅化氫-HBr

>99.9%,用于半導體制備工藝中等離子干刻工序;用作還原劑,制備有機及無機澳化合物。


20

硅烷-SiH4

>99.999%,電阻率>100Ω/cm2,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積等工序。

21

乙硅烷-Si2H6

>99.9%,用于半導體制備工藝中化學氣相淀積。


22

磷烷-PH3

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序;磷烷與二氧化碳混合的低濃度氣體,可用于殺死糧倉的蟲卵和制備阻火化合物。

23

砷烷-AsH3

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、化學氣相淀積、離子注入等工序。

24

硼烷-B2H6

>99.995%,用于半導體器件制備工藝中外延、擴散、氧化等工序;用于有些化學工業合成過程:如氫硼化反應(即生成醇類),有機功能的衰退,制備較高的硼烷衍生物和碳甲硼烷化合物。

25

鍺烷-GeH4

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。


26

銻烷-SbH3

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、離子注入工序。


27

四氧甲硅烷-Si(OC2H5)4

>99.99%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。


28

乙烷-C2H6

>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;還用于冶金工業的熱處理,化學工業中制備乙醇、氧化乙二醇、氯乙烯、高醇類、乙醛等。


29

丙烷-C3H8

>99.99%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;用于半導體器件制備工藝中等離子干刻工序;另外,用于燃料、冷凍劑、制備乙烯與丙烯的原料。


30

硒化氫-H2Se

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。


31

碲化氫-H2Te

>99,999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。


32

二氯二氫硅-SiH2Cl2

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。


33

三氯氫硅-SiHCl3

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。


34

二甲基碲-(CH3)2Te

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。


35

二乙基碲-(C2H5)2Te

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中擴散、離子注入工序。


36

二甲基鋅(CH5)2Zn

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。


37

二乙基鋅(C2H5)2Zn

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中化學氣相淀積工序。


38

三氯化磷-PCl3

>99.99%,用于半導體器件制備工藝中擴散,鍺的外延生長和離子注入工藝;PCl3是有機物的良好氯化劑;也用于含磷有機物的合成。


39

三氯化砷-AsCl3

>99.99%,用于半導體器件制備工藝中的外延和離子注入。


40

三氯化硼-BCl3

>99.99%,用于等離子干刻、擴散;作硼載氣及一些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從溶化金屬中除掉氮、碳、氧化合物。


41

四氯化硅-SiCl4

>99.999%,用于半導體器件制備工藝中外延、化學氣相淀積工序。


42

四氯化錫-SnCl4

>99.99%,用于外延、離子注入。


43

四氯化鍺-GeCl4

>99.999%,用于離子注入。


44

四氯化欽-TiCl4

>99.99%,用于等離子干刻。


45

五氯化磷-PCl5

>99.99%,用于外延、離子注入。


46

五氯化銻-Sb=Cl5

>99.99%,用于外延、離子注入。


47

六氯化鑰-MoCl6

>99.9%,用于化學氣相淀積。


48

三嗅化硼-BBr3

>99.99%,用于半導體器件制備工藝中離子注入工序和制備光導纖維。


49

三嗅化磷-PBr3

>99.99%,用于外延、離子注入。


50

磷酞氯-POCI3

>99.999%,用于擴散工序。


51

三氟化硼-BF3

>99.99%,用于離子注入;另外,可作載氣、某些有機反應的催化劑;精煉鎂、鋅、鋁、銅合金時從熔化金屬中除掉氮、氧、碳化物。


52

三氟化磷-PF3

>99%,用于外延、離子注入工序;另外用作氟化劑。


53

三氟化砷-AsF3

>99%,用于外延、離子注入工序;另外用作氟化劑。


54

二氟化氨-XeF2

>99.9%,用于外延、離子注入工序;用于固定模具氨的考察及原子反應堆排放廢氣中氮的測定。


55

三氟氯甲烷-CClF3,(R-13)

>99.995%,用于等離子干刻工序;冷凍劑、空調均可用。


56

三氟甲烷-CHF3,(R-23)

>99.999%,用于等離子干刻工序;低溫冷凍劑。


57

三氟化氮-NF3

>99.99%,用于等離子干刻工序;火箭推進劑、氟化劑。


58

三氟嗅甲烷-CBrF3,(R13B1)

>99.99%,用于等離子干刻工序;還用于空調、低溫冷凍及滅火劑。


59

三氟化硼-11-B11F3

>99.99%,用于離子注入工序(天然硼的同位素,含11B8l%,10B19%。出售的11B是濃縮含有96%同位素BF3);還用于制備光導纖維。


60

四氟化碳-CF4,(R-14)

>99.99%,用于等離子干刻工序;在很低溫度下作為低溫流體用;也用于中性及惰性氣體。


61

四氟化硫-SF4

>98%,用于等離子干刻工序;氟化劑、表面處理劑。


62

四氟化硅-SiF4

>99.99%,用于化學氣相淀積工序;制備氟硅酸及其鹽類。


63

四氟化鍺-GeF4

>99.999%,用于離子注入工序。


64

五氟化磷-PF5

>99.9%,用于離子注入、等離子干刻工序;另外,用作氟化劑,聚合、烴化及脫烴化反應、烴類裂化反應時作催化劑。


65

五氟氯乙烷-C2ClF6,(R-115)

>99.99%,用于等離子干刻工序;另外,作冷凍劑、煙霧噴氣劑。


66

五氟化砷-AsF5

>99%,用于外延、離子注入工序,氟化劑。



67

六氟乙烷-C2F6,(R-116)

>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻、冷凍劑和空調;單體生產的原料;化學反應中的添氟劑、電器設備的絕緣劑。


68

六氟化硫-SF6

>99.99%,用作標準氣;用于化學氣相淀積工序;由于在高電壓下具有很高的電阻,用作電器設備的絕緣劑;檢漏氣體,實驗室中作色譜儀的載氣。


69

六氟化鎢-WF6

>99.99%,用于化學氣相淀積工序;強烈的氟化劑;也用作鎢載體。


70

六氟化氧-(CF3)2O2

>99.99%,用于等離子干刻工序。


71

六氟乙酰-(CF3)2CO

>99.99%,用于等離子干刻工序。


72

六氟乙酞氧-(CF3CO)2O

>99.99%,用于等離子干刻工序。


73

六氟化錸-ReF6

>97%,用于離子注入工序;氟化劑。


74

八氟丙烷-C3F8,(R-218)

>99.9%,用于等離子干刻工序;與氟利昂相混合作冷凍劑;高壓電的絕緣劑。


75

八氟環丁烷-C4F8,(RC318)

>99.99%,用于等離子干刻工序;用作冷卻劑、冷凍劑;作電器和電子設備的氣體絕緣。


76

十二氟戊烷-C5F12

>99.9%,用于等離子干刻工序;也可與CF4相混用。


77

三甲基鋁-(CH3)3Al

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


78

三甲基鎵-(CH3)3Ga

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


79

三甲基銻-(CH3)3Sb

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


80


三甲基錮-(CH3)3In

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


81


三乙基鋁-(C2H5)3Al

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


82


三乙基鎵-(C2H5)3Ga

>99.999%,用于化學氣相淀積工序;金屬的有機合成。


83


四乙基鉛-(C2H5)4Pb

>99.999%,用于化學氣相淀積工序。


84


丙烯腈-C3H3N

>99.9%,用于等離子干刻工序。


85

1,1,2-三氯乙烯-C2HCl3

>99.99%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;用于半導體器件制備工藝中熱氧化工序;另外,用于金屬的脫脂劑和脂肪、油、石蠟等萃取劑,衣服干洗,冷凍劑,殺菌劑。


86

甲烷-CH4

99.999%,用作標準氣、校正氣、在線儀表標準氣;作燃料、宇宙飛船中氣體電池。


87

甲烷硫醇-CH3SH

>99.5%,用作標準氣、校正氣;用于有機合成;作為噴氣燃料添加劑,殺真菌劑和蛋氨酸的中間體。


88

一甲胺-CH3NH2

99%,用于硫化促進劑、藥物、染料和炸藥等,并作溶劑、有機合成、醋酸人造纖維。


89

甲醇-CH3OH

>99.9%,用作標準氣,與空氣混合后作校正氣;用于制備甲醛和農藥鄉用于有機物質的萃取劑和酒精的變性劑。


90


二甲胺-(CH3)2NH

>99%,用作抗氧化劑;在溶液中作浮洗.劑、汽油穩定劑、橡膠加速劑等。


91

二甲醚-(CH3)2O

>99.9%,在化學工業中用作配制合成橡膠和甲硫醚;用作甲基劑、萃取劑、溶劑;也用作制冷劑。


92

乙炔-C2H2

>99.9%,用作標準氣、校正氣;化學工業中的中間體,如制備乙烯、乙醛、醋酸乙烯、氯乙烯、乙烯醚等;用于原子吸收光譜。



93

乙烯-C2H4

>99.99%,用作在線儀表標準氣、標準氣、校正氣;是化學工業合成中的重要原料,生產塑料的中間體,生產乙醇、醋酸、氧化乙烯、氯乙烯、乙苯等的原料;也用于焊接和切割、冷凍劑、某些水果、蔬菜生長的加速劑。


94

氧化乙烯-C2H4O

99.9%,用作標準氣、校正氣、醫療氣;與CO2、R11、R21相混合作消毒劑,文物保管,皮革消毒,清洗衣料均可采用;化學工業中用作中間體,生產液體或固體聚乙二醇、乙醇胺類等。


95


溴代乙烯-C2H3Br

>99.9%,用作有機合成的中間體,用聚合法與共聚法來制備塑料。


96

一乙胺-CH3CH2NH2

>99%,水溶液中含有70%乙胺,作為下列化學工業制備中的中間體:著色劑,電鍍池、硫化增速劑等;還用于制藥、表面活性劑、萃取劑。


97


四氟乙烯-C2F4

>99%,在生產塑料時作為一種重要的單體,如泰氟隆等。


98


乙醛-CH5CHO

>99.9%,用作校正氣;用于制備酷酸、醋醉、醋酸乙酷、正丁醇、合成樹脂等。


99


二甲基二硫醚-CH3S2CH3

>99.9%,用作校正氣、溶劑。


100


二甲基硫醚-CH3SCH3

>99.9%,用作校正氣、溶劑。

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